黄山控制柜回收 南通通州淘汰长晶炉回收
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为了方便副炉室3移动到取晶位,并方便副炉室3的拆解、清理,连续拉晶单晶炉还包括副炉室升降驱动装置12和副炉室旋转驱动装置13,所述所述副炉室3通过副炉室旋臂14连接在副炉室升降驱动装置12上,以便通过副炉室升降驱动装置12驱动副炉室旋臂14升降,并通过副炉室旋臂14带动副炉室3升降,所述副炉室旋转驱动装置13连接在副炉室升降驱动装置12和副炉室旋臂14之间,以便使得副炉室旋转驱动装置13随副炉室旋臂14一起升降,并通过副炉室旋转驱动装置13驱动副炉室旋臂14旋转,副炉室旋臂14又带动副炉室3旋转。一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,在半导体材料中用量和用途广的是半导体硅。当今 95 %以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用低速提拉、生长过程均速提拉的办法制成的。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。当今 ,随着 IT产业的迅速发展 ,单晶硅生产市场需求剧,研制一种满足工艺要求、低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。